為何半導體黃光製程中，Rinse、BARC、EBR這三樣材料缺一不可？

Question

## 半導體黃光製程中，Rinse、BARC、EBR三者缺一不可的重要性

Accepted Answer

在半導體先進製程的黃光微影（Photolithography）階段，Rinse（表面改質劑）、BARC（底部抗反射劑）以及EBR（邊緣殘膠去除劑）這三種材料扮演著至關重要的角色，它們各自的功能互相依賴，共同確保了電路圖案能夠精確地轉移到矽晶圓上，進而影響到最終晶片的效能與良率。