EUV（極紫外光）技術對於半導體製程至關重要，因為它能夠製造出更小、更精密的電路。這項技術使用極紫外光波長進行光刻，與傳統的深紫外光（DUV）相比，EUV能夠在晶片上刻畫出更精細的圖案。這使得半導體製造商能夠生產出效能更高、功耗更低的晶片，滿足市場對更強大電子產品的需求。
EUV技術的主要優勢在於其高解析度和精確度。這使得晶片製造商能夠在單個晶片上容納更多的電晶體，從而提高晶片的效能。此外，EUV光刻技術還可以簡化製造過程，減少多重曝光的需求，從而降低生產成本並縮短生產週期。由於全球對先進半導體的需求不斷增長，EUV技術成為推動半導體產業發展的關鍵因素。
天虹科技在EUV光罩膜塗佈與檢測設備方面取得了重要進展。該公司已開發出EUV光罩膜塗佈與檢測設備原型機，並已進入客戶付費使用階段，顯示其技術已具備市場價值。客戶預計於2026年第一季對天虹設備進行驗證，若驗證順利，有望在2026年下半年開始量產。成功量產EUV檢測設備預期將為天虹科技帶來營收成長，尤其是在先進半導體製程對EUV技術需求不斷增加的情況下，市場潛力巨大。
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