新應材股份有限公司成立於2003年，初期專注於面板產業所需的光阻劑及清洗劑，顯示器相關營收佔比一度高達98%。自2018年起，新應材開始轉型，專注於半導體特化材料。目前，該公司主要產品為半導體先進製程光阻周邊表面改質劑（Rinse），這是半導體黃光微影製程中的關鍵材料。新應材持續與晶圓廠客戶合作，生產半導體先進製程關鍵材料，包括Rinse表面改質劑、BARC底部抗反射劑及EBR洗邊劑等，並有多項前段微影材料正在開發中。
Rinse表面改質劑在半導體黃光微影製程中扮演關鍵角色，有助於提升晶圓表面的均勻性和清潔度，從而提高光阻劑的附著力和解析度。BARC（底部抗反射劑）則用於減少光在晶圓表面的反射，進而改善微影製程的精確度和圖案保真度。EBR（洗邊劑）則用於去除晶圓邊緣不需要的光阻劑，確保後續製程的順利進行，這三者共同作用，確保半導體製造過程中的精確性和可靠性，進而提升整體產品質量。
新應材的這些半導體材料在全球供應鏈中扮演著關鍵角色，尤其是在先進製程中。隨著半導體技術不斷發展，對材料的純度和性能要求也越來越高，新應材的產品有助於滿足這些需求。近期，新應材的股價表現強勁，但市場情緒可能有所波動，投資人需密切觀察其在半導體先進製程材料的進展，以及未來的財務表現。未來值得注意的關鍵時點包括季度財報發布及新產品的市場反應，這些將成為影響股價的重要因素。
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