美國跨黨派議員近期提出的「硬體技術控制多邊一致性法案」(MATCH Act)，主要目標是阻止中國取得關鍵的晶片製造設備，這項法案引發市場對艾司摩爾(ASML)在中國市場銷售可能進一步下滑的擔憂。目前，艾司摩爾最先進的極紫外光(EUV)光微影設備已經禁止銷往中國，但用於製造記憶體等成熟製程晶片的深紫外光(DUV)設備，仍有部分可以合法出口。若新法案通過，DUV設備也可能面臨全面禁令。
法人機構 Quilter Cheviot 的科技研究主管分析指出，舊款光微影設備約佔艾司摩爾整體營收的10%至15%，而其中中國市場又佔據約一半的比例。這意味著，如果DUV設備面臨全面禁令，艾司摩爾可能將承受約5%的營收衝擊。不過，該分析師也認為，隨著時間的推移，這一影響程度可能會逐漸減輕。艾司摩爾公司稍早的預估顯示，在新規出爐前，中國市場今年佔其總營收的比例將下降至約20%。
儘管美國過去的出口管制已經促使中國積極尋找替代方案，甚至在某些領域試圖突破國際大廠的技術封鎖，但在成熟製程設備方面，中國晶片製造商仍面臨挑戰。目前，中芯國際與華虹等中國主要的晶片製造商，在生產成熟製程晶片方面，仍然高度依賴艾司摩爾的DUV設備。
由於全球幾乎沒有其他DUV光微影機的替代選項，分析師強調，如果美國的新規定獲得批准並開始實施，將會嚴重影響中國的半導體製造能力。這也意味著，中國的晶片製造商可能需要在短期內尋找其他的解決方案，或者將生產重心轉向其他領域。
艾司摩爾成立於1984年，總部位於荷蘭，是全球半導體製造光微影系統的市場領導者。光微影技術是利用光源將電路圖案從光罩曝光到半導體晶圓上的製程，最新的技術讓晶片製造商能夠持續增加矽晶圓上的電晶體數量。艾司摩爾的下一代EUV工具對於突破5奈米製程節點至關重要，其主要客戶包括英特爾、三星和台積電等。
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